CoFeV الائي اسپٽرنگ ھدف اعلي خالص پتلي فلم Pvd ڪوٽنگ ڪسٽم ٺهيل

Cobalt Iron Vanadium sputtering target ۾ 52% مواد Cobalt جو، 9%-23% مواد Vanadium ۽ باقي - ductile مستقل مقناطيسي مواد آهي.اهو شاندار پلاسٽڪ اخترتي جي صلاحيت ڏيکاري ٿو ۽ پيچيده شڪلن سان اجزاء ۾ ٺاهي سگهجي ٿو.

Cobalt Iron Vanadium alloy sputtering target انتهائي تيز saturation flux density Bs (2.4T) ۽ ڪيوري جي درجه حرارت (980~1100℃) آهي.اهو وزن گھٽائڻ ۾ مدد ڪري سگهي ٿو ۽ بلند درجه حرارت تي استحڪام بهتر ڪري سگهي ٿو.اهو هوائي جهازن جي برقي سامان (ننڍي خاص برقي مشينن، برقي مقناطيس ۽ برقي رلي) لاء هڪ مناسب مواد آهي.اهو پڻ اعلي saturation magnetostriction coefficient آهي، ۽ magnetostrictive transducer پيدا ڪري سگهي ٿو.

رچ اسپيشل مواد اسپٽرنگ ٽارگيٽ جي پيداوار ۾ ماهر آهن ۽ گراهڪن جي وضاحتن مطابق ڪوبالٽ آئرن وينڊيم اسپٽرنگ مواد پيدا ڪري سگھن ٿا.وڌيڪ معلومات لاء، مهرباني ڪري اسان سان رابطو ڪريو.