CrAlSi الائي اسپٽرنگ ھدف اعلي خالص پتلي فلم Pvd ڪوٽنگ ڪسٽم ٺهيل
ڪروم ايلومينيم سلکان
Chronium المونيم Silicon Sputtering ٽارگيٽ بيان
ڪرونيم ايلومينيم سلڪون اسپٽرنگ ٽارگيٽ جي ٺاھڻ ھيٺ ڏنل قدمن تي مشتمل آھي:
1. سلڪون، ايلومينيم ۽ ڪرونيم جي ويڪيوم پگھلڻ لاء قدم مصر حاصل ڪرڻ لاء.
2. پائوڊر پيس ۽ ملائڻ.
3.Hot isostatic پريسنگ علاج ڪروميم ايلومينيم سلکان مصر اسپٽرنگ ٽارگيٽ حاصل ڪرڻ لاء.
ڪرونيم ايلومينيم سلڪون اسپٽرنگ ٽارگيٽ وڏي پيماني تي استعمال ڪيا ويندا آهن ڪٽڻ واري اوزار ۽ ٺهيل ۾، ان جي لباس جي مزاحمت ۽ اعلي درجه حرارت آڪسائيڊ مزاحمت جي ڪري فلم جي ڪارڪردگي کي بهتر ڪرڻ لاء.
CrAlSi هدفن جي PVD جي عمل دوران هڪ بيڪار Si3N4 مرحلو ٺاهيو ويندو.Amorphous Si3N4 مرحلن جي شامل ٿيڻ جي ڪري، اناج جي سائيز جي واڌ کي روڪيو وڃي ٿو ۽ اعلي درجه حرارت آڪسائيڊ مزاحمت جي ملڪيت کي بهتر بڻائي سگهجي ٿو.
Chronium المونيم Silicon Sputtering ٽارگيٽ پيڪنگ
اسان جو ڪرونيم ايلومينيم سلڪون اسپٽر ٽارگيٽ واضح طور تي ٽيگ ٿيل آهي ۽ ٻاهرين طور تي ليبل ٿيل آهي موثر سڃاڻپ ۽ معيار جي ڪنٽرول کي يقيني بڻائڻ لاءِ.ڪنهن به نقصان کان بچڻ لاءِ وڏو خيال رکيو وڃي ٿو جيڪو اسٽوريج يا ٽرانسپورٽ دوران ٿي سگهي ٿو
رابطو حاصل ڪريو
آر ايس ايم جي ڪرونيم ايلومينيم سلڪون اسپٽرنگ جا مقصد الٽرا اعلي پاڪائي ۽ يونيفارم جا آهن.اهي مختلف شڪلن، purities، سائيز ۽ قيمتن ۾ موجود آهن.اسان اعليٰ پاڪيزگي واري ٿلهي فلم ڪوٽنگ جو مواد تيار ڪرڻ ۾ مهارت رکون ٿا بهترين ڪارڪردگي سان گڏوگڏ سڀ کان وڌيڪ ممڪن کثافت ۽ ننڍي ممڪن اوسط اناج جي ماپ لاءِ استعمال لاءِ مولڊ ڪوٽنگ، سينگار، گاڏين جا حصا، لو-اي گلاس، سيمي ڪنڊڪٽر انٽيگريٽڊ سرڪٽ، پتلي فلم مزاحمت، گرافڪ ڊسپلي، ايرو اسپيس، مقناطيسي رڪارڊنگ، ٽچ اسڪرين، پتلي فلم شمسي بيٽري ۽ ٻيون جسماني بخار جمع (PVD) ايپليڪيشنون.مھرباني ڪري اسان کي انڪوائري موڪليو موجوده قيمتن لاءِ اسپٽرنگ ھدف ۽ ٻيون ذخيرو مواد جيڪي درج نه آھن.
