جيئن ته اسان سڀ ڄاڻون ٿا، اتي گھڻا خاصيتون آھن اسپٽرنگ ھدف، ۽ انھن جي ايپليڪيشن جا شعبا پڻ تمام وسيع آھن.مختلف شعبن ۾ عام طور تي استعمال ٿيندڙ ھدف جا قسم پڻ مختلف آھن.اڄ، اچو ته RSM جي ايڊيٽر سان اسپٽرنگ ٽارگيٽ ايپليڪيشن فيلڊز جي درجه بندي بابت ڄاڻون!
1، ڦاٽڻ واري هدف جي تعريف
ٿلهي فلم جي مواد تيار ڪرڻ جي مکيه ٽيڪنالاجي مان هڪ آهي.اهو آئن ماخذ پاران پيدا ڪيل آئن کي تيز ڪرڻ ۽ ويڪيوم ۾ گڏ ڪرڻ لاءِ استعمال ڪري ٿو هڪ تيز رفتار آئن شعاع ٺاهڻ لاءِ ، جامد مٿاڇري تي بمباري ڪري ٿو ۽ آئن مضبوط سطح تي ايٽمس سان متحرڪ توانائي مٽائي ٿو ، انهي ڪري مٿاڇري کي مضبوط کان جدا ڪيو ويندو آهي ۽ ذيلي سطح تي جمع ڪيو ويندو آهي.بمبورڊ ٿيل سولڊ، اسپٽرنگ ذريعي جمع ٿيل پتلي فلم تيار ڪرڻ لاءِ خام مال آهي، جنهن کي اسپٽرنگ ٽارگيٽ چئبو آهي.
2، اسپٽرنگ ٽارگيٽ ايپليڪيشن فيلڊز جي درجه بندي
1. سيمي ڪنڊڪٽر ٽارگيٽ
(1) عام ھدف: ھن ميدان ۾ عام ھدف ۾ اعليٰ پگھلڻ واري نقطي واريون دھاتون شامل آھن جھڙوڪ ٽينٽالم/ ٽامي/ ٽائيٽينيم/ المونيم/ سون/ نڪيل.
(2) استعمال: بنيادي طور تي انٽيگريڊ سرڪٽس لاءِ اهم خام مال طور استعمال ڪيو ويندو آهي.
(3) ڪارڪردگي جي گهرج: پاڪائي، سائيز، انضمام، وغيره لاء اعلي ٽيڪنيڪل گهرجن.
2. فليٽ پينل ڊسپلي لاء ھدف
(1) عام ھدف: ھن فيلڊ ۾ عام ھدف شامل آھن ايلومينيم / ٽامي / موليبڊينم / نڪيل / نيوبيم / سلکان / ڪروميم وغيره.
(2) استعمال: هن قسم جو ٽارگيٽ گهڻو ڪري مختلف قسم جي وڏي-ايريا فلمن جهڙوڪ ٽي وي ۽ نوٽ بڪ لاء استعمال ڪيو ويندو آهي.
(3) ڪارڪردگي جي گهرج: پاڪائي لاء اعلي گهرجون، وڏي ايراضي، يونيفارم، وغيره.
3. شمسي سيل لاء ٽارگيٽ مواد
(1) عام ھدف: ايلومينيم / ڪاپر / molybdenum / ڪروميم / ITO / Ta ۽ شمسي سيلز لاء ٻيا ھدف.
(2) استعمال: بنيادي طور تي "ونڊو پرت"، رڪاوٽ پرت، اليڪٽرروڊ ۽ conductive فلم ۾ استعمال ٿيندو آهي.
(3) ڪارڪردگي گهرجن: اعلي ٽيڪنيڪل گهرجن ۽ وسيع ايپليڪيشن جي حد.
4. معلومات جي اسٽوريج لاء ھدف
(1) عام ھدف: ڪوبالٽ/نڪل/فيرو آلائي/ڪروميم/ٽيلوريم/سيلينيم ۽ ٻين مواد جا عام ھدف معلومات رکڻ لاءِ.
(2) استعمال: ھن قسم جي ھدف واري مواد کي خاص طور تي مقناطيسي سر، وچين پرت ۽ ھيٺئين پرت لاء استعمال ڪيو ويندو آھي بصري ڊرائيو ۽ آپٽيڪل ڊسڪ جي.
(3) ڪارڪردگي گهرجن: اعلي اسٽوريج جي کثافت ۽ تيز ٽرانسميشن جي رفتار جي ضرورت آهي.
5. اوزار جي ترميم لاءِ ھدف
(1) عام ھدف: عام ھدف جھڙوڪ ٽائيٽينيم / زيرڪونيم / ڪروميم ايلومينيم مصر جو اوزار تبديل ٿيل آھي.
(2) استعمال: عام طور تي مٿاڇري کي مضبوط ڪرڻ لاء استعمال ڪيو ويندو آهي.
(3) ڪارڪردگي گهرجون: اعلي ڪارڪردگي گهرجن ۽ ڊگهي خدمت زندگي.
6. اليڪٽرانڪ ڊوائيسز لاء ھدف
(1) عام مقصد: عام ايلومينيم مصر / سلائيسائيڊ هدف اليڪٽرانڪ ڊوائيسز لاء
(2) مقصد: عام طور تي پتلي فلم resistors ۽ capacitors لاء استعمال ڪيو.
(3) ڪارڪردگي جي گهرج: ننڍي سائيز، استحڪام، گهٽ مزاحمت جي درجه حرارت جي گنجائش
پوسٽ جو وقت: جولاء-27-2022