جيئن ته اسان سڀ ڄاڻون ٿا، عام طور تي ويڪيوم ڪوٽنگ ۾ استعمال ٿيل طريقا ويڪيوم ٽرانسپشن ۽ آئن اسپٽرنگ آهن.Transpiration coating ۽ sputtering coating Many ۾ ڪهڙو فرق آهيماڻهو اهڙا سوال آهن.اچو ته توهان سان شيئر ڪريون ٽرانسپريشن ڪوٽنگ ۽ اسپٽرنگ ڪوٽنگ جي وچ ۾ فرق
ويڪيوم ٽرانسپائريشن فلم آهي ڊيٽا کي گرم ڪرڻ لاءِ هڪ مقرر گرمي پد تي منتقل ٿيڻ لاءِ مزاحمتي حرارتي يا اليڪٽران بيم ۽ ليزر شيلنگ ذريعي ماحول ۾ 10-2Pa کان گهٽ نه ويڪيوم ڊگري سان، ته جيئن ماليڪيولز جي حرارتي وائبريشن توانائي يا ڊيٽا ۾ موجود ايٽم مٿاڇري جي پابند توانائي کان وڌيڪ آهن، تنهنڪري ڪيترائي ماليڪيول يا ايٽم ٽرانسپيريشن يا وڌندا آهن، ۽ انهن کي سڌو سنئون ذيلي ذخيرو تي جمع ڪري هڪ فلم ٺاهي.آئن اسپٽرنگ ڪوٽنگ اليڪٽرڪ فيلڊ جي اثر هيٺ گيس ڊسچارج ذريعي پيدا ٿيندڙ مثبت آئنز جي تيز مزاحمت واري حرڪت کي استعمال ڪندي ٽارگيٽ کي ڪيٿوڊ جي طور تي بمباري ڪرڻ لاءِ استعمال ڪري ٿي، ته جيئن ٽارگيٽ ۾ موجود ايٽم يا ماليڪيولز فرار ٿي وڃن ۽ پليٽ ٿيل ورڪ پيس جي مٿاڇري تي جمع ٿين. گهربل فلم.
ويڪيوم ٽرانسپريشن ڪوٽنگ جو سڀ کان عام استعمال ٿيل طريقو مزاحمتي حرارتي طريقو آهي.ان جي فائدن گرمائش جو ذريعو، گهٽ قيمت ۽ آسان آپريشن جي سادي جوڙجڪ آهن.ان جا نقصان آهن ته ان کي refractory metals ۽ اعلي گرمي پد مزاحمتي ميڊيا لاء مناسب نه آهي.اليڪٽران بيم حرارتي ۽ ليزر حرارتي مزاحمتي حرڪت جي نقصانن کي ختم ڪري سگھن ٿا.اليڪٽران بيم جي گرمائش ۾، مرڪوز اليڪٽران بيم استعمال ڪيو ويندو آهي سڌي طرح شيل ٿيل ڊيٽا کي گرم ڪرڻ لاءِ، ۽ اليڪٽران بيم جي متحرڪ توانائي ڊيٽا کي منتقل ڪرڻ لاءِ گرمي توانائي بڻجي ويندي آهي.ليزر هيٽنگ اعلي طاقت واري ليزر کي حرارتي ذريعو طور استعمال ڪري ٿو، پر اعلي-پاور ليزر جي اعلي قيمت جي ڪري، اهو صرف تحقيقاتي ليبارٽريز جي هڪ ننڍڙي تعداد ۾ استعمال ڪري سگهجي ٿو.
اسپٽرنگ جي مهارت خلا جي منتقلي جي مهارت کان مختلف آهي.اسپٽرنگ ان واقعي ڏانهن اشارو ڪري ٿو جنهن ۾ چارج ٿيل ذرات واپس جسم جي مٿاڇري (ٽارگٽ) تي بمباري ڪن ٿا، تنهنڪري سطح کان مضبوط ايٽم يا ماليڪيول خارج ٿين ٿا.اڪثر خارج ٿيل ذرات ايٽمي هوندا آهن، جن کي اڪثر ڪري ڦٽل ائٽم چئبو آهي.شيلنگ جي مقصدن لاءِ استعمال ٿيل ذرڙا اليڪٽران، آئن يا غير جانبدار ذرات ٿي سگهن ٿا.ڇاڪاڻ ته آئنز کي بجليءَ جي ميدان هيٺ گهربل متحرڪ توانائي حاصل ڪرڻ آسان آهي، آئنز اڪثر ڪري شيلنگ ذرڙن جي طور تي چونڊيا ويندا آهن.
ڦاٽڻ وارو عمل چمڪندڙ خارج ٿيڻ تي مبني آهي، اهو آهي، اسپٽرنگ آئن گئس خارج ٿيڻ کان ايندا آهن.مختلف اسپٽرنگ صلاحيتن ۾ مختلف چمڪ خارج ڪرڻ جا طريقا آهن.DC diode sputtering DC چمڪ خارج ڪرڻ جو استعمال؛Triode sputtering گرم ڪيٿوڊ جي مدد سان هڪ چمڪندڙ خارج ڪرڻ آهي؛آر ايف اسپٽرنگ استعمال ڪري ٿو آر ايف گلو خارج ڪرڻ؛Magnetron sputtering هڪ چمڪندڙ ڊسچارج آهي جيڪو ڪنولر مقناطيسي فيلڊ ذريعي ڪنٽرول ڪيو ويندو آهي.
ويڪيوم ٽرانسپريشن ڪوٽنگ جي مقابلي ۾، اسپٽرنگ ڪوٽنگ جا ڪيترائي فائدا آهن.جيڪڏهن ڪنهن به مادو کي ڦٽو ڪري سگهجي ٿو، خاص طور تي عناصر ۽ مرکبات جيڪي اعلي پگھلڻ واري نقطي ۽ گهٽ بخار جي دٻاء سان؛sputtered فلم ۽ substrate جي وچ ۾ adhesion سٺو آهي.اعلي فلم جي کثافت؛فلم جي ٿولهه کي ڪنٽرول ڪري سگهجي ٿو ۽ ورجائي سگهه سٺي آهي.نقصان اهو آهي ته سامان پيچيده آهي ۽ اعلي وولٹیج ڊوائيسز جي ضرورت آهي.
ان کان علاوه، ٽرانسپشن جو طريقو ۽ اسپٽرنگ جو طريقو آئن پليٽنگ آهي.هن طريقي جا فائدا فلم ۽ سبسٽريٽ جي وچ ۾ مضبوط آسن، اعلي ذخيرو جي شرح ۽ فلم جي اعلي کثافت آهن.
پوسٽ جو وقت: مئي-09-2022