ھدف ڪيترائي اثر آھن، ۽ مارڪيٽ جي ترقي جي جڳھ وڏي آھي.اهو ڪيترن ئي شعبن ۾ تمام مفيد آهي.لڳ ڀڳ سڀ نوان اسپٽرنگ سامان طاقتور مقناطيس استعمال ڪن ٿا سرپل اليڪٽرانن کي ٽارگيٽ جي چوڌاري آرگن جي آئنائيزيشن کي تيز ڪرڻ لاءِ، جنهن جي نتيجي ۾ ٽارگيٽ ۽ آرگن آئنز جي وچ ۾ ٽڪراءَ جي امڪان ۾ اضافو ٿئي ٿو.هاڻي اچو ته ويڪيوم ڪوٽنگ ۾ اسپٽرنگ ٽارگيٽ جي ڪردار تي هڪ نظر وجهون.
اسپٽرنگ جي شرح کي بهتر ڪريو.عام طور تي، ڊي سي اسپٽرنگ دھات جي ڪوٽنگ لاءِ استعمال ڪيو ويندو آهي، جڏهن ته آر ايف اي سي اسپٽرنگ غير موصل سيرامڪ مقناطيسي مواد لاءِ استعمال ٿيندو آهي.بنيادي اصول خال ۾ ٽارگيٽ جي مٿاڇري تي آرگن (AR) آئنز کي مارڻ لاءِ گلو ڊسچارج کي استعمال ڪرڻ آهي، ۽ پلازما ۾ ڪيشنز تيز ٿي ويندا ته جيئن منفي اليڪٽرروڊ جي مٿاڇري تي ڦاٿل مواد جي طور تي.اهو اثر ٽارگيٽ جي مواد کي اڏائي ڇڏيندو ۽ فلم ٺاهڻ لاء سبسٽريٽ تي جمع ڪندو.
عام طور تي ڳالهائڻ، فلم جي ڪوٽنگ جون ڪيتريون ئي خاصيتون آهن ڦڦڙن جي عمل سان: (1) ڌاتو، مصر يا انسولٽر کي فلم ڊيٽا ۾ ٺاهي سگهجي ٿو.
(2) مناسب سيٽنگ جي حالتن ۾، فلم هڪ ئي ٺهيل سان گڏ ڪيترن ئي ۽ بي ترتيب ٿيل هدفن مان ٺاهي سگهجي ٿي.
(3) ھدف واري مواد ۽ گيس ماليڪيولن جو مرکب يا مرڪب خارج ٿيڻ واري ماحول ۾ آڪسيجن يا ٻيون فعال گيس شامل ڪري پيدا ڪري سگھجي ٿو.
(4) ھدف ان پٽ موجوده ۽ اسپٽرنگ وقت کي ڪنٽرول ڪري سگھجي ٿو، ۽ اھو اعلي سڌائي واري فلم جي ٿلهي حاصل ڪرڻ آسان آھي.
(5) ٻين عملن جي مقابلي ۾، اها وڏي ايراضيءَ واري يونيفارم فلمن جي پيداوار لاءِ سازگار آهي.
(6) ڦاٽل ذرڙا تقريباً ڪشش ثقل کان متاثر نه ٿيندا آهن، ۽ ٽارگيٽ ۽ ذيلي ذخيري جي پوزيشن آزاديءَ سان ترتيب ڏئي سگهجي ٿي.
پوسٽ جو وقت: مئي-17-2022